兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室

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薄膜制备仪

2010-09-04 磁学实验室

仪器的主要功能、技术指标、学术特色和应用范围：

主要用来制备单层膜、多层膜，金属膜、绝缘体膜等。

本底真空优于2X10^-5Pa, 具有六个磁控靶位。

衬底温度从室温到1000K可控。基片可加磁场。

目前主要用于高频软磁薄膜的制备。

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